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Efecto del voltaje Bias D.C. en las propiedades electroquímicas de películas delgadas de AlN obtenidas por medio de la técnica magnetrón sputtering R.F
dc.contributor.author | Yate, Luis | |
dc.contributor.author | Aperador Chaparro, William Arnulfo | |
dc.contributor.author | Caicedo, Julio Cesar | |
dc.contributor.author | Zambrano, Gustavo | |
dc.contributor.author | Espinoza Beltrán, F. J | |
dc.contributor.author | Muñoz Saldaña, Juan | |
dc.date.accessioned | 2023-05-23T16:40:32Z | |
dc.date.available | 2023-05-23T16:40:32Z | |
dc.date.issued | 2009 | |
dc.identifier.issn | 0120-2650 | spa |
dc.identifier.uri | https://repositorio.escuelaing.edu.co/handle/001/2354 | |
dc.description.abstract | Se depositaron películas delgadas de nitruro de aluminio, AlN, por el método de magnetrón sputtering r.f. reactivo usando un blanco de aluminio (99.9 %), sobre sustratos de silicio [100] y acero Rus-3, para investigar la influencia del voltaje de polarización bias d.c. sobre las películas obtenidas. Los análisis de EDS mostraron que las diferentes películas presentaron composiciones de Al y N entre 89% y 85% y 10% y 14%, respectivamente. Por medio de análisis de FTIR, se encontró la presencia de modos activos alrededor de 680 cm-1 asociados a la fase wurtzita del AlN, y alrededor de 600, 950 y 980 cm-1 asociados a estructuras amorfas de Al-N y óxidos en las películas. Las propiedades electroquímicas de los recubrimientos crecidos a diferentes voltajes bias fueron comparadas con el sustrato de acero RUS-3, mediante la espectroscopia de impedancia electroquímica (EIS) y con curvas de polarización Tafel. La velocidad de corrosión de las muestras depositadas a 0V y -80V (9.5 y 27.9 mpy, respectivamente) fueron menores que la del acero sin recubrir (33.1 mpy), mostrando el efecto protector de la capa de AlN depositada. | spa |
dc.description.abstract | Aluminum nitride thin films were deposited onto Si [100] and Rus-3 steel substrates by reactive magnetron sputtering technique from an Al (99.9%) target, in order to study the influence of the d.c. bias polarisation voltage on the obtained films. EDS analysis showed that films presented compositions of Al and N between 89% and 85% and 10% and 14%, respectively. By means of FTIR analysis, was found the presence of active modes around 680 cm-1 associated to the AlN wurtzita phase, and around 600, 950 and 980 cm-1 associated to Al-N amorphous structures and oxides in the films. The electrochemical properties of the coatings growth at different bias voltages were compared with the RUS-3 substrate, by means of electrochemical impedance spectroscopy (EIS), and with Tafel polarization curves. The corrosion speed of the coatings growth at 0 and -80V (27.9 and 9.5 mpy, respectively) were lowers than that from the steel without coating (33.1 mpy), showing the protective effect of the AlN deposited films. | eng |
dc.format.extent | 3 páginas | spa |
dc.format.mimetype | application/pdf | spa |
dc.language.iso | spa | spa |
dc.title | Efecto del voltaje Bias D.C. en las propiedades electroquímicas de películas delgadas de AlN obtenidas por medio de la técnica magnetrón sputtering R.F | spa |
dc.type | Artículo de revista | spa |
dc.type.version | info:eu-repo/semantics/publishedVersion | spa |
oaire.accessrights | http://purl.org/coar/access_right/c_14cb | spa |
oaire.version | http://purl.org/coar/version/c_970fb48d4fbd8a85 | spa |
dc.audience | Magnetrones | spa |
dc.audience | Magnetrons | eng |
dc.audience | Análisis de Fourier | spa |
dc.audience | Fourier analysis | eng |
dc.contributor.researchgroup | Grupo de Investigación Ecitrónica | spa |
dc.publisher.place | Colombia | spa |
dc.relation.citationendpage | 42 | spa |
dc.relation.citationissue | 1 | spa |
dc.relation.citationstartpage | 40 | spa |
dc.relation.citationvolume | 41 | spa |
dc.relation.indexed | N/A | spa |
dc.relation.ispartofjournal | Revista Colombiana de Física | spa |
dc.relation.references | J. Hwang, et. al. Solid-State Electron., 36, 348 (2004) | spa |
dc.relation.references | C. Men, et. al. Phys. B Condens. Matter., 229, 324 (2002). | spa |
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dc.relation.references | V. Mortet, et. al. Surf. Coat. Technol., 88, 176 (2003). | spa |
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dc.relation.references | J. Ning, et al. Thin Solid Films, 55, 385 (2001). | spa |
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dc.relation.references | H. Altun, et. al. Surface & Coatings Technology, 193, 197 (2005). | spa |
dc.relation.references | H. Schäfer, et. al. Corrosion Science, 953, 47 (2005). | spa |
dc.rights.accessrights | info:eu-repo/semantics/closedAccess | spa |
dc.subject.armarc | Electroquímica | spa |
dc.subject.armarc | Electrochemistry | eng |
dc.subject.armarc | Espectroscopía por rayos-X | spa |
dc.subject.armarc | X-ray spectroscopy | eng |
dc.subject.armarc | Magnetrones | spa |
dc.subject.armarc | Magnetrons | eng |
dc.subject.proposal | Nitruro de aluminio | spa |
dc.subject.proposal | Magnetrón sputtering | spa |
dc.subject.proposal | Propiedades electroquímicas | spa |
dc.subject.proposal | Aluminum nitride | eng |
dc.subject.proposal | Magnetron sputtering | eng |
dc.subject.proposal | Electrochemical properties | eng |
dc.type.coar | http://purl.org/coar/resource_type/c_2df8fbb1 | spa |
dc.type.content | Text | spa |
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dc.type.redcol | http://purl.org/redcol/resource_type/ART | spa |
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Clasificación: A - Convocatoria 2018