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Caracterización mediante difracción de rayos X de electrorecubrimientos CU CD sobre sustratos de Zamal obtenidos con las técnicas DC, PDC Y PRC

Este trabajo presenta el uso de la técnica de corriente pulsante directa (PDC) y la implementación de la corriente pulsante con inversión de polaridad (PRC) para electrodepositar películas delgadas Cu/Cd en forma de bicapa sobre substratos de Zamak. Se estudió la influencia de las diferentes variables involucradas en cada uno de los procesos: voltaje y tiempo de deposición (VHigh y tHigh), voltaje y tiempo de disolución (VLow y tLow) y el ciclo de carga (θ=tHigh /tHigh+tLowf), obteniendo como respuesta el monitoreo de la corriente anódica (ILow) y catódica (IHigh) en función del tiempo anódico (tLow) y catódico (tHigh), respectivamente. Los electrodepósitos de Cu/Cd se caracterizaron mediante difracción de rayos X observándose estructura y composición en cada una de las películas obtenidas. Se observó que el control pulsante del voltaje durante el depósito influye en la composición de las electrorecubrimientos.