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Desarrollo e implementación de un equipo de galvanoplastia basado en instrumentación virtual, utilizando tres técnicas (DC, PC, ICP) de deposición

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DESARROLLO E IMPLEMENTACION DE UN EQUIPO DE GALVANOPLASTIA BASADO EN INSTRUMENTACION VIRTUAL, UTILIZANDO TRES TECNICAS (DC, PC, ICP) DE DEPOSICIÓN.pdf (382.45 KB)
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Authors

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Aperador Chaparro, William Arnulfo
Vera López, Enrique
Fernandez, Orlando
Abstract (Spanish)
Este trabajo muestra el desarrollo de un equipo versátil, para realizar procesos de galvanoplastia por diferentes métodos (corriente directa, corriente pulsante, corriente pulsante inversa). El equipo se basa en instrumentación virtual. Esto hace que el equipo sea muy sencillo, pues todo el control del mismo es fácilmente configurable a través de paneles virtuales. Consta de un rectificador para manejo hasta de 30 Amperios, el cual es controlado por una tarjeta AD/DA. Este equipo se diseño para que proporcione una corriente pulsante capaz de soportar rangos hasta de 30 amperios, voltaje de 30 voltios pico y tiempos del orden de los milisegundos. El software se desarrollo con labview 7.0, el cual permite controlar y monitorear el tiempo catódico, tiempo anódico, voltaje catódico, voltaje anódico, número de ciclos, periodo de muestreo, tiempo de electro deposición y carga consumida. Lo cual permite determinar la carga de deposición en función de la corriente y en periodos de tiempo seleccionado por el usuario. Este equipo fue evaluado para hacer depósitos de baños de Cu/Ni, los cuales fueron evaluados en función de la corrosión.
Abstract (English)
This work shows the development of a versatile equipment to carry out processes of galvanoplasty for methods different (direct current, pulse direct current, inverse pulse current). The equipment is based on virtual instrumentation. This makes that the equipment can be simple, because its control is easily configuration through virtual panels. It has a mostly rectify for handling until of 30 Amperes, which is controlled by a card AD/DA. This equipment was design for providing an pulse current ablest to support ranges until of 30 amperes, voltage of 30 volts pick and pick and times starting from the second thousand. The software you development with labview 7.0, which allows to control and measure the cathodic time, time anodic, cathodic voltage, anodic voltage, number of cycles, period of sampling, time of electrodeposition and it loads consumed. That which allows determining the deposition load in function of the current, in periods of time selected by the user. This equipment was evaluated to make deposits of bath of Cu/Ni, which were evaluated in function of the corrosion.
Extent
5 páginas
URI: https://repositorio.escuelaing.edu.co/handle/001/2391
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AB - Ecitrónica
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