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Effect of applied bias voltage on corrosion-resistance for TiC1xNx and Ti1xNbxC1yNy coatings
(ElSevier, 2010)
Corrosion-resistance behavior of titanium carbon nitride (Ti–C–N) and titanium niobium carbon nitride
(Ti–Nb–C–N) coatings deposited onto Si(1 0 0) and AISI 4140 steel substrates via r.f. magnetron
sputtering process ...
Efecto del voltaje Bias D.C. en las propiedades electroquímicas de películas delgadas de AlN obtenidas por medio de la técnica magnetrón sputtering R.F
(2009)
Se depositaron películas delgadas de nitruro de aluminio, AlN, por el método de magnetrón sputtering r.f. reactivo usando un blanco de aluminio (99.9 %), sobre sustratos de silicio [100] y acero Rus-3, para investigar la ...
Caracterización electroquímica de bicapas de Ti/TiN depositadas sobre acero RUS-3 por el método de magnetrón sputtering
(2008)
Se depositaron bicapas del sistema Ti/TiN sobre substratos de silicio [100] y acero RUS-3 usando la técnica de magnetrón sputtering d.c. a una temperatura del substrato de 400ºC, una potencia d.c de 80W y aplicando al ...